在真空環境中，將材料加熱并鍍到基片上稱為真空蒸鍍，或叫真空鍍膜（vacuum evaporating; vacuum evaporation）。
　　真空蒸鍍是將待成膜的物質置于真空中進行蒸發或升華，使之在工件或基片表面析出的過程。
　　真空蒸鍍中的金屬鍍層通常為鋁膜，但其它金屬也可通過蒸發沉積。
　　原理
　　金屬加熱至蒸發溫度。然后蒸汽從真空室轉移，在低溫零件上凝結。該工藝在真空中進行，金屬蒸汽到達表面不會氧化。
　　在對樹脂實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，有必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。
　　工藝流程
　　1、 脫脂處理 用丙酮或酒精進行清洗
　　2、 表面處理（必要時） 電暈（corona）放電處理，紫外線照射處理等。
　　3、 底面涂布/硬化處理（必要時）
　　為了得到精美的蒸鍍膜，有時必須進行底面涂布處理。進行底面涂布處理可以得到以下的效果：
　　(1)、改善樹脂與蒸鍍膜之間的密接性
　　(2)、將成型品表面的微小凹凸部分填平，以獲得如鏡面一樣的表面
　　無論是為了得到反射鏡作用而實施真空蒸鍍，還是對密接性較低的奪鋼進行真空蒸鍍時，都必須進行底面涂布處理。底面涂布工藝基本與涂布工藝相似。如一般的涂料一樣，可以使用噴槍進行噴涂。
　　4、 真空蒸鍍工藝 蒸鍍金屬為鋁、金等。
　　5、 表面涂布/硬化處理（必要時）
　　由真空蒸鍍所產生的金屬薄膜相當的薄，為了利用外界的化學、物理等性能，以達到保護蒸鍍膜的目的，有時需要實施表面涂布處理(或過量涂布)。
　　設備
　　可用的金屬蒸發源包括電阻加熱、感應蒸發、電子束槍，以及真空電弧。電阻加熱的鎢絲是最常用的方式。鎢絲放置于要求位置，獲得均勻的覆蓋，鋁屑或切段放置在鎢絲上。蒸發金屬也可放置在加熱艇或坩鍋內。
　　蒸鍍通常可以在圓柱形涂鍍室內分批進行。涂鍍室直徑可達幾米，取決于涂鍍零件的大小和數量。零件可以繞蒸汽源做行星運動，以在零件各邊均勻地涂鍍金屬層。如果需要的話，不需涂鍍的區域可使用隔膜，通常是金屬板。
　　真空蒸鍍的基材
　　真空蒸鍍的基材主要是常用的薄膜基材有：BOPET、BONY、BOPP、PE、PVC等塑料薄膜和紙張類。除了薄膜和紙張外，真空蒸鍍廣泛應用于塑料、金屬、陶瓷、合成樹脂、蠟、木材等制品，產品應用范圍涵蓋以下幾個方面：1、禮品、飾品、工藝品；2、裝飾裝潢產品；3、各種燈具反光罩；4、電子產品；5、包裝用品等。
　　真空蒸鍍工藝對被鍍基材的要求
　　（1）耐熱性好，基材必須能耐受蒸發源的輻射熱和蒸發物的冷凝潛熱。
　　（2）從薄膜基材上產生的揮發性物質要少；對吸濕性大的基材，在鍍膜前理。
　　（3）基材應具有一定的強度和表面平滑度。
　　（4）對蒸鍍層的粘接性良好；對于PP、PE等非極性材料，蒸鍍前應進行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。