石英玻璃是二氧化硅單一組分的玻璃。這種玻璃硬度大可達莫氏七級，具有耐高溫、膨脹系數低、耐熱震性、化學穩定性和電絕緣性能良好，并能透過紫外線和紅外線。除氫氟酸、熱磷酸外，對一般酸有較好的耐酸性。按透明度分為透明和不透明兩大類。按純度分為高純、普通和摻雜三類。用水晶，硅石，硅化物為原料，經高溫熔化或化學氣相沉積而成。熔制方法有電熔法、氣煉法等。
　　石英玻璃的形成是由于其熔體高溫黏度很高引起的結果。用于制作半導體、電光源器、半導通信裝置、激光器，光學儀器，實驗室儀器、電學設備、醫療設備和耐高溫耐腐蝕的化學儀器、化工、電子、冶金、建材以及國防等工業，應用十分廣泛。

　　高純石英玻璃可制光導纖維。
　　隨著半導體技術的發展，石英玻璃被廣泛的用于半導體生產的各項工序中。比如，直拉法把多晶轉化成單晶硅；清洗時用的清洗槽；擴散時用的擴散管、刻槽舟；離子注入時用的鐘罩等等。
　　石英玻璃具有極低的熱膨脹系數，高的耐溫性，極好的化學穩定性，優良的電絕緣性，低而穩定的超聲延遲性能，最佳的透紫外光譜性能以及透可見光及近紅外光譜性能，并有著高于普通玻璃的機械性能。因此它是近代尖端技術中空間技術、原子能工業、國防裝備、自動化系統，以及半導體、冶金、化工、電光源、通訊、輕工、建材等工業中不可缺少的優良材料之一。

　　石英玻璃是用天然結晶石英（水晶或純的硅石），或合成硅烷經高溫熔制而成。熔融后的產品具有極好的加工性能，在其高的粘度范圍內，可以將管和棒進行有如普通玻璃細工一樣的熱加工，還可以用金剛石或碳化硅制成的磨具進行高速機械加工，從而制成各種復雜形狀的儀器和特種制品。石英玻璃的性能主要取決于它的純度，其次是工藝過程或熱工制度。微量雜質的存在將給石英玻璃的使用性能帶來重大的影響；同時由于工藝過程或熱工制度的稍有疏忽，將給外觀質量帶來多種多樣的缺陷，產生大量的廢次產品。
　　純度是石英玻璃的重要指標，對理化性能和使用性能影響甚大，如失透性、高溫強度、軟化點、光的傳導、熱穩定性、化學穩定性、耐輻射性、熒光特性等；此外，用于半導體工業的石英玻璃，對純度的要求更為苛刻，微量的雜質將給半導體材料的電性能和壽命以及集成度帶來嚴重的影響。由于半導體材料的純度要求控制在ppb數量級以下，因此石英玻璃則應控制在PPm數量級以適應半導體工業的需要。B的分凝系數近于1,最難除掉，是最有害的雜質之一，Cu、Fe、Ti等影響半導體的少子壽命，K、Na、Li是單晶材料產生微缺陷的有害雜質。本公司為半導體工業服務已有40余年的歷史，并始終致力于去除上述有害雜質的研制工作。

　　失透（又叫析晶性）是石英玻璃的一個固有缺陷，從熱力學觀點看，石英玻璃的內能高于結晶態方石英，屬熱力學上不穩定的亞穩態，當溫度高于1000℃時，SiO2 分子振動加速，經一段較長時間的重新排列、定向便形成結晶。失透性是以晶核成長速度來表示的，不透明石英玻璃在1520℃、透明石英玻璃在1620℃析晶速度分別達到最大值。
　　析晶主要出現在表面，其次是內部缺陷處，原因是這些地方容易沾污，引起雜質離子的局部集聚，特別是堿離子（如K、Na、Li、Ca、Mg等）進入網絡后引起粘度降低，促使失透加速。

　　由于石英玻璃的熱膨脹系數和比重同析晶產物β-方石英相近，所以在高溫下連續使用時，盡管析晶區不斷擴大，但體積變化并不明顯，仍可滿意地繼續使用，此時尚可減輕玻璃的塑性變形，使耐火度提高。當析晶產物冷卻到800℃時，則出現細小的龜裂網絡。繼續冷卻到200-275℃時，則出現方石英從高溫型到低溫型（即β-方石英→a-方石英）的結構變化，并伴隨著發生體積聚變，如果析晶層很深，則石英玻璃亦隨之破裂。由于析晶常常出現在有雜質的地方，所以高溫使用前的表面狀態及周圍耐火材料、氣氛十分重要。有關使用石英玻璃時注意事項后面還要介紹。
　　石英玻璃屬酸性材料，除氫氟酸和熱磷酸外，對其它任何酸均表現為惰性，是最好的耐酸材料。在常溫下堿和鹽對石英玻璃的腐蝕程度也是極微的，因此不排除在這些試劑中使用石英玻璃。
　　透明石英玻璃比不透明石英玻璃具有更好的化學穩定性，這是因為后者由于氣泡的存在暴露在腐蝕液中的表面積增加所致。