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鋁及鋁合金 的微弧氧化技術

來源:中國幕墻網收集整理  作者:*  日期:2007-6-13
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  1.技術內容及技術關鍵

 (1)微弧氧化技術的內容和工藝流程

  鋁及鋁合金材料的微弧氧化技術內容主要包括鋁基材料的前處理;微弧氧化;后處理三部分。其工藝流程如下:鋁基工件→化學除油→清洗→微弧氧化→清洗→后處理→成品檢驗。

(2)微弧氧化電解液組成及工藝條件
  1.技術內容及技術關鍵

 (1)微弧氧化技術的內容和工藝流程

  鋁合金材料的微弧氧化技術內容主要包括鋁基材料的前處理;微弧氧化;后處理三部分。其工藝流程如下:鋁基工件→化學除油→清洗→微弧氧化→清洗→后處理→成品檢驗。


(2)微弧氧化電解液組成及工藝條件

  例1.電解液組成:K2SiO3 5~10g/L,Na2O2 4~6g/L,NaF 0.5~1g/L,CH3COONa 2~3g/L,Na3VO3 1~3g/L;溶液pH為11~13;溫度為20~50℃;陰極材料為不銹鋼板;電解方式為先將電壓迅速上升至300V,并保持5~10s,然后將陽極氧化電壓上升至450V,電解5~10min。例2兩步電解法,第一步:將鋁基工件在200g/L的K2O·nSiO2(鉀水玻璃)水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min;第二步:將經第一步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。陰極材料為:不銹鋼板;溶液溫度為20~50℃。


 (3)影響因素

  ①合金材料及表面狀態(tài)的影響:微弧氧化技術對鋁基工件的合金成分要求不高,對一些普通陽極氧化難以處理的鋁合金材料,如含銅、高硅鑄鋁合金的均可進行微弧氧化處理。對工件表面狀態(tài)也要求不高,一般不需進行表面拋光處理。對于粗糙度較高的工件,經微弧氧化處理后表面得到修復變得更均勻平整;而對于粗糙度較低的工件,經微弧氧化后,表面粗糙度有所提高。


  ②電解質溶液及其組分的影響:微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術關鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數,所得膜層的性質也不同。微弧氧化電解液多采用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液(如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等),其在溶液中的存在形式最好是膠體狀態(tài)。溶液的pH范圍一般在9~13之間。根據膜層性質的需要,可添加一些有機或無機鹽類作為輔助添加劑。在相同的微弧電解電壓下,電解質濃度越大,成膜速度就越快,溶液溫度上升越慢,反之,成膜速度較慢,溶液溫度上升較快。


  ③氧化電壓及電流密度的影響:微弧氧化電壓和電流密度的控制對獲取合格膜層同樣至關重要。不同的鋁基材料和不同的氧化電解液,具有不同的微弧放電擊穿電壓(擊穿電壓:工件表面剛剛產生微弧放電的電解電壓),微弧氧化電壓一般控制在大于擊穿電壓幾十至上百伏的條件進行。氧化電壓不同,所形成的陶瓷膜性能、表面狀態(tài)和膜厚不同,根據對膜層性能的要求和不同的工藝條件,微弧氧化電壓可在200~600V范圍內變化。微弧氧化可采用控制電壓法或控制電流法進行,控制電壓進行微弧氧化時,電壓值一般分段控制,即先在一定的陽極電壓下使鋁基表面形成一定厚度的絕緣氧化膜層;然后增加電壓至一定值進行微弧氧化。當微弧氧化電壓剛剛達到控制值時,通過的氧化電流一般都較大,可達10A/dm2左右,隨著氧化時間的延長,陶瓷氧化膜不斷形成與完善,氧化電流逐漸減小,最后小于1A/dm2。氧化電壓的波形對膜層性能有一定影響,可采用直流、鋸齒或方波等電壓波形。采用控制電流法較控制電壓法工藝操作上更為方便,控制電流法的電流密度一般為2~8A/dm2。控制電流氧化時,氧化電壓開始上升較快,達到微弧放電時,電壓上升緩慢,隨著膜的形成,氧化電壓又較快上升,最后維持在一較高的電解電壓下。


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